Традиционные методы оптической литографии уверенно и прочно закрепились в арсенале материаловеда. Разумеется "классическая" оптическая литография, в силу существования дифракционного предела, имеет определенные ограничения при получении наноструктурированных образцов. В то же время, оптические методы повышенного разрешения (например, ближнепольная оптическая микроскопия) не позволяют получать структурированный материал в существенных объемах.
Свой выход из сложившейся ситуации предложил коллектив исследователей из университета Людвига-Максимилиана (Мюнхен). В своей работе они использовали лазерный луч (разделенный на составные части после прохождения пространственно-временного модуля, соответствующего требуемой наноструктуре) для позиционирования коллоидных наночастиц на подложке. Авторы статьи уверяют, что достигнутое ими разрешение составляет менее 45 нм, что примерно соответствует λ/10 при длине волны лазера 532 нм, а время получения самой структуры не превышает 10 с.
Каким же образом авторам удалось преодолеть дифракционный предел? Все дело в том, что продольная компонента оптической силы, прилепляющая коллоидную наночастицу к подложке, имеет Гауссов профиль интенсивности. Поэтому размер области, в которой оптическая сила сравнительно велика, регулируется интенсивностью излучения лазера. В то же время, наличие радиальной компоненты приводит к образованию потенциальной ямы, чья глубина пропорциональна мощности пучка. Дифракционный предел определяет лишь ширину потенциальной ямы на полумаксимуме.