В данном методе используется коллоидный раствор смеси наночастиц Fe3O4 и γ-Fe2O3, нанесенный на фоторезист и ограниченный каналами полидиметилсилоксана (рис.1). При подаче внешнего магнитного поля наночастицы железа выстраиваются в колонны, а после облучения ультрафиолетом участки фоторезиста, не защищенные колоннами из наночастиц, удаляются. На рисунке 2 представлен массив наночастиц внутри канала высотой 10 мкм. Отчетливо видны некоторые дефекты, такие как слипшиеся точки или точки неправильной формы. Это связано с тем, что наночастицы не являются полностью стационарными в процессе литографии, а полученные точки являются усреднением расположения наночастиц по времени. Для решения этой проблемы авторы предлагают использовать более мощный источник УФ излучения.
В подтверждение гибкости предложенного метода литографии, авторы представили зависимость расстояния между точками от величины приложенного магнитного поля (рис.3). Авторами было достигнуто минимальное расстояние между точками 1.8 мкм, однако по утверждению авторов статьи, эта цифра может быть уменьшена и ограничивается достижением магнитными наночастицами состояния насыщения. Кроме того, авторами работы этим же методом были получены кольца (рис.4) после увеличения времени литографии на 30%, однако исследователям не удалось найти точного объяснения механизму образования колец.
В заключение хочется отметить, что предложенным методом литографии могут быть получены периодические структуры различной сложности, варьируя параметры приложенного магнитного поля.