Нанотехнологическое сообщество Нанометр, все о нанотехнологиях
на первую страницу Новости Публикации Библиотека Галерея Сообщество Объявления Олимпиада ABC О проекте
 
  регистрация
помощь
 
Прототип литографической системы Mapper
Отклоняющие бланкеры 7x7 (вид сверху)
Отклоняющие бланкеры 7x7 (в разрезе)
Схема технологии электронно-лучевой литографии

Запуск московского завода Mapper Lithography по производству МЭМС оптики для литографического оборудования нового поколения

Ключевые слова:  Mapper, МЭМС, нанолитография, нанооптика, система нейтрализации газов, технопарк, электронно-лучевая литография

Опубликовал(а):  Булаев Петр Валентинович

11 августа 2014

Голландская компания Mapper Lithography Holding B.V. более 10 лет разрабатывает технологию электронно-лучевой безмасочной литографии, которая в настоящее время является наиболее перспективной альтернативой оптической литографии в производстве микросхем. Как известно, оптическая литография уже фактически достигла своего технологического предела 18 нм (для жесткого ультрафиолета - EUV). В технологии Mapper экспонирование фоторезистивного слоя производится электронным пучком вместо света. Фактически используется один очень мощный параллельный пучок электронов, который попадает на матрицу бланкеров (пластина с дырками, одна из сторон которой представляет собой электрод). Когда на электрод подается напряжение, то луч не проходит. Плюс к этому, у каждого луча есть индивидуальный дефлектор, отклоняющий луч в пределах 2 мкм перпендикулярно движению пластины, а также электростатическая фокусирующая линза. Таким образом, широкий пучок делится на 13000 узких сфокусированных пучков, направлением каждого из которых можно управлять. Микропластины с дефлекторами и линзами изготавливаются на специальных заводах по уже хорошо отработанной МЭМС технологии.

Основным преимуществом Mapper перед конкурирующей технологией EUV является отсутствие дорогостоящих масок, которые в оптической литографии нужно изготавливать для каждого типа микросхем. Это может существенно снизить стоимость конечной продукции.

Из технологических сложностей следует упомянуть необходимость использования достаточно мощного источника электронов, требование высочайшей скорости передачи маски на МЭМС матрицу, а также масштабирование на серийное производство (текущий прототип Matrix 1.1 позволяет обрабатывать 1 подложку в час, для крупносерийного производства предполагается объединять установки в большие кластеры).

Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована и крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.

В 2012 году корпорация РОСНАНО наряду с другими фондами инвестировала в компанию Mapper Lithography. В рамках проекта предполагается завершение разработки и начало производства литографического оборудования. Вторая часть проекта заключается в открытии в России линии по производству электронной оптики МЭМС. Электронная оптика используется для отклонения и фокусировки множества электронных пучков при экспонировании пластины и, таким образом, является ключевым элементом технологии MAPPER. Завод по производству МЭМС оптики открылся в технополисе «Москва»- новом российском центре инновационного производства, расположенном недалеко от центра Москвы на территории бывшего автозавода «Москвич» (подробнее о технополисе: www.technomoscow.ru).

Площадь московского завода составляет две тысячи квадратных метров. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, согласно измерениям, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Все производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в том числе литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и для удаления фоторезиста Trymax, а также система для нейтрализации отходящих газов CS Clean Systems. На московском заводе будет работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в головной компании в Голландии.

Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые — спейсеры — служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры — кремниевые электронные линзы, предназначены для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов — содержащих электронику управляющих электродов — планируется начать к концу 2015 года.





Комментарии
Пастух Евфграфович, 12 августа 2014 10:38 
Вообще, связь между чистотой и сложностью следует признать повсемесно. Это добрые друзья Надеюсь, если присмотреться, уже все сотрудники выезжая "на природу" не оставляют за собой даже фантика от конфетки?

"Это может существенно снизить стоимость конечной продукции."
- (Вздыхая) а качество опять будет зависеть от человеческого фактора или где?


Для того чтобы оставить комментарий или оценить данную публикацию Вам необходимо войти на сайт под своим логином и паролем. Зарегистрироваться можно здесь

 

Наночастицы золота в капилляре
Наночастицы золота в капилляре

Приглашение на вебинар «Комбинация АСМ и оптических методик: новые достижения и приложения»
НТ-МДТ Спектрум Инструментс приглашает Вас принять участие в бесплатном вебинаре «Комбинация АСМ и оптических методик: новые достижения и приложения»

Наносистемы: физика, химия, математика (2019, том 10, № 1)
Опубликован новый номер журнала "Наносистемы: физика, химия, математика". Ознакомиться с его содержанием, а также скачать необходимые Вам статьи можно по адресу: http://nanojournal.ifmo.ru/articles/volume10/10-1
Там же можно скачать номер журнала целиком.

XXI Менделеевский съезд по общей и прикладной химии,
Уважаемые коллеги! Приглашаем вас принять участие в работе XXI Менделеевского съезда по общей и прикладной химии, который состоится с 9 по 13 сентября 2019 года в Санкт-Петербурге и станет одним из основных мероприятий Международного года Периодической таблицы химических элементов, провозглашённого ООН в декабре 2017 г.
Проводится под эгидой Международного союза по теоретической и прикладной химии (IUPAC).

Микроэлементарно, Ватсон: как микроэлементы действуют на организм
Алексей Тиньков
Как на нас воздействуют кадмий, ртуть, цинк, медь и другие элементы таблицы Менделеева рассказал сотрудник кафедры медицинской элементологии РУДН Алексей Тиньков в интервью Indicator.Ru

Зимняя научная конференция студентов 4 курса ФНМ МГУ 22-23 января 2019 г.
Сафронова Т.В.
Настоящий сборник содержит тезисы докладов зимней научной студенческой конференции студентов 4-го курса ФНМ

Самые необычные таблицы Менделеева на выставке Международного года Периодической таблицы химических элементов

6-8 февраля в Российской академии наук состоялось торжественное открытие Международного года периодической таблицы химических элементов в России и приуроченная к этому масштабная интерактивная выставка

Технопредпринимательство на марше

Мы традиционно просим вас высказать свои краткие суждения по вопросу технопредпринимательства и проектной деятельности школьников. Для нас очевидно, что под технопредпринимательством и под проектной деятельностью школьников каждый понимает свое, но нам интересно ваше мнение, заодно вы сможете увидеть по мере прохождения опроса, насколько оно совпадает или отличается от мнения остальных. Ждем ваших ответов!

О наноолимпиаде замолвите слово...

Прошла XII Всероссийская олимпиада "Нанотехнологии - прорыв в Будущее!" Мы надеемся, что нам для улучшения организации последующих наноолимпиад поможет электронное анкетирование. Мы ждем Ваших замечаний, пожеланий, предложений. Спасибо заранее!

Опыт обучения в области нанотехнологического технопредпринимательства

В этом опросе мы просим поделиться опытом и Вашим отношением к нанотехнологическому технопредпринимательству и смежным областям. Заранее спасибо за Ваше неравнодушие!



 
Сайт создан в 2006 году совместными усилиями группы сотрудников и выпускников ФНМ МГУ.
Сайт модернизирован для ресурсной поддержки проектной деятельности учащихся в рамках ГК 16.647.12.2059 (МОН РФ)
Частичное или полное копирование материалов сайта возможно. Но прежде чем это делать ознакомьтесь с инструкцией.