Нанотехнологическое сообщество Нанометр, все о нанотехнологиях
на первую страницу Новости Публикации Библиотека Галерея Сообщество Объявления Олимпиада ABC О проекте
 
  регистрация
помощь
 
Прототип литографической системы Mapper
Отклоняющие бланкеры 7x7 (вид сверху)
Отклоняющие бланкеры 7x7 (в разрезе)
Схема технологии электронно-лучевой литографии

Запуск московского завода Mapper Lithography по производству МЭМС оптики для литографического оборудования нового поколения

Ключевые слова:  Mapper, МЭМС, нанолитография, нанооптика, система нейтрализации газов, технопарк, электронно-лучевая литография

Опубликовал(а):  Булаев Петр Валентинович

11 августа 2014

Голландская компания Mapper Lithography Holding B.V. более 10 лет разрабатывает технологию электронно-лучевой безмасочной литографии, которая в настоящее время является наиболее перспективной альтернативой оптической литографии в производстве микросхем. Как известно, оптическая литография уже фактически достигла своего технологического предела 18 нм (для жесткого ультрафиолета - EUV). В технологии Mapper экспонирование фоторезистивного слоя производится электронным пучком вместо света. Фактически используется один очень мощный параллельный пучок электронов, который попадает на матрицу бланкеров (пластина с дырками, одна из сторон которой представляет собой электрод). Когда на электрод подается напряжение, то луч не проходит. Плюс к этому, у каждого луча есть индивидуальный дефлектор, отклоняющий луч в пределах 2 мкм перпендикулярно движению пластины, а также электростатическая фокусирующая линза. Таким образом, широкий пучок делится на 13000 узких сфокусированных пучков, направлением каждого из которых можно управлять. Микропластины с дефлекторами и линзами изготавливаются на специальных заводах по уже хорошо отработанной МЭМС технологии.

Основным преимуществом Mapper перед конкурирующей технологией EUV является отсутствие дорогостоящих масок, которые в оптической литографии нужно изготавливать для каждого типа микросхем. Это может существенно снизить стоимость конечной продукции.

Из технологических сложностей следует упомянуть необходимость использования достаточно мощного источника электронов, требование высочайшей скорости передачи маски на МЭМС матрицу, а также масштабирование на серийное производство (текущий прототип Matrix 1.1 позволяет обрабатывать 1 подложку в час, для крупносерийного производства предполагается объединять установки в большие кластеры).

Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована и крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.

В 2012 году корпорация РОСНАНО наряду с другими фондами инвестировала в компанию Mapper Lithography. В рамках проекта предполагается завершение разработки и начало производства литографического оборудования. Вторая часть проекта заключается в открытии в России линии по производству электронной оптики МЭМС. Электронная оптика используется для отклонения и фокусировки множества электронных пучков при экспонировании пластины и, таким образом, является ключевым элементом технологии MAPPER. Завод по производству МЭМС оптики открылся в технополисе «Москва»- новом российском центре инновационного производства, расположенном недалеко от центра Москвы на территории бывшего автозавода «Москвич» (подробнее о технополисе: www.technomoscow.ru).

Площадь московского завода составляет две тысячи квадратных метров. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, согласно измерениям, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Все производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в том числе литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и для удаления фоторезиста Trymax, а также система для нейтрализации отходящих газов CS Clean Systems. На московском заводе будет работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в головной компании в Голландии.

Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые — спейсеры — служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры — кремниевые электронные линзы, предназначены для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов — содержащих электронику управляющих электродов — планируется начать к концу 2015 года.





Комментарии
Пастух Евфграфович, 12 августа 2014 10:38 
Вообще, связь между чистотой и сложностью следует признать повсемесно. Это добрые друзья Надеюсь, если присмотреться, уже все сотрудники выезжая "на природу" не оставляют за собой даже фантика от конфетки?

"Это может существенно снизить стоимость конечной продукции."
- (Вздыхая) а качество опять будет зависеть от человеческого фактора или где?


Для того чтобы оставить комментарий или оценить данную публикацию Вам необходимо войти на сайт под своим логином и паролем. Зарегистрироваться можно здесь

 

Наноженщина Пикассо
Наноженщина Пикассо

Конкурс логотипа ФНМ МГУ
Факультет наук о материалах МГУ имени М.В.Ломоносова объявляет творческий конкурс логотипа (эмблемы) ФНМ, работы принимаются с 21 августа до 15 сентября 2019 года. Участники - все, кто имеет или когда бы то ни было имел отношение к ФНМ МГУ: студенты, аспиранты, преподаватели, сотрудники, выпускники, а также все творческие люди из большой университетской семьи.

Продолжается прием статей в 11-й выпуск Межвузовского сборника научных трудов «Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов»
Продолжается прием статей в 11-й выпуск Межвузовского сборника научных трудов «Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов»

Участие НТ-МДТ Cпектрум Инструментс в конференции “ГРАФЕН: МОЛЕКУЛА И 2D КРИСТАЛЛ”
Участие НТ-МДТ Cпектрум Инструментс в конференции “ГРАФЕН: МОЛЕКУЛА И 2D КРИСТАЛЛ” 5-9 августа 2019 года в Новосибирске

3D нанотехнологии в физике, химии, биологии, медицине и инженерном искусстве
И.В.Яминский
Материалы лекции проф. МГУ, д.ф.-м.н., генерального директора Центра Перспективных технологий И.В.Яминского "3D нанотехнологии в физике, химии, биологии, медицине и инженерном искусстве". 3D принтер, сканирующий зондовый микроскоп и фрезерный станок. Что общего между ними? Как конструировать их своими руками? Небольшой экскурс в практические нанотехнологии. Поучительная история о создании сканирующего туннельного микроскопа. От идеи до нобелевской премии за 5 лет. Взгляд в микромир – от атомов и молекул до живых клеток. Как взвесить массу одного атома? Вирусы и бактерии – наши друзья или враги? Медицинские приложения нанотехнологий – нанобиосенсоры для обнаружения биологических агентов.

Материалы и пленочные структуры спинтроники и стрейнтроники
В.А.Кецко
Девятый Наноград, проходивший в Ханты - Мансийске, собрал талантливых школьников, интересных лекторов и преподавателей в области наноматериалов, нанотехнологий и технопредпринимательства. В сообщении даны материалы лекции д.х.н., в.н.с. ИОНХ РАН В.А.Кецко "Материалы и пленочные структуры спинтроники и стрейнтроники".

Лекции и семинары от ФНМ МГУ на Нанограде
Е.А.Гудилин
Девятый Наноград, проходивший в Ханты - Мансийске, собрал талантливых школьников, интересных лекторов и преподавателей в области наноматериалов, нанотехнологий и технопредпринимательства. Ниже даны материалы лекций и семинаров представителя ФНМ МГУ проф., д.х.н. Е.А.Гудилина.

Технопредпринимательство на марше

Мы традиционно просим вас высказать свои краткие суждения по вопросу технопредпринимательства и проектной деятельности школьников. Для нас очевидно, что под технопредпринимательством и под проектной деятельностью школьников каждый понимает свое, но нам интересно ваше мнение, заодно вы сможете увидеть по мере прохождения опроса, насколько оно совпадает или отличается от мнения остальных. Ждем ваших ответов!

О наноолимпиаде замолвите слово...

Прошла XII Всероссийская олимпиада "Нанотехнологии - прорыв в Будущее!" Мы надеемся, что нам для улучшения организации последующих наноолимпиад поможет электронное анкетирование. Мы ждем Ваших замечаний, пожеланий, предложений. Спасибо заранее!

Опыт обучения в области нанотехнологического технопредпринимательства

В этом опросе мы просим поделиться опытом и Вашим отношением к нанотехнологическому технопредпринимательству и смежным областям. Заранее спасибо за Ваше неравнодушие!



 
Сайт создан в 2006 году совместными усилиями группы сотрудников и выпускников ФНМ МГУ.
Сайт модернизирован для ресурсной поддержки проектной деятельности учащихся в рамках ГК 16.647.12.2059 (МОН РФ)
Частичное или полное копирование материалов сайта возможно. Но прежде чем это делать ознакомьтесь с инструкцией.