Нанотехнологическое сообщество Нанометр, все о нанотехнологиях
на первую страницу Новости Публикации Библиотека Галерея Сообщество Объявления Олимпиада ABC О проекте
 
  регистрация
помощь
 
Прототип литографической системы Mapper
Отклоняющие бланкеры 7x7 (вид сверху)
Отклоняющие бланкеры 7x7 (в разрезе)
Схема технологии электронно-лучевой литографии

Запуск московского завода Mapper Lithography по производству МЭМС оптики для литографического оборудования нового поколения

Ключевые слова:  Mapper, МЭМС, нанолитография, нанооптика, система нейтрализации газов, технопарк, электронно-лучевая литография

Опубликовал(а):  Булаев Петр Валентинович

11 августа 2014

Голландская компания Mapper Lithography Holding B.V. более 10 лет разрабатывает технологию электронно-лучевой безмасочной литографии, которая в настоящее время является наиболее перспективной альтернативой оптической литографии в производстве микросхем. Как известно, оптическая литография уже фактически достигла своего технологического предела 18 нм (для жесткого ультрафиолета - EUV). В технологии Mapper экспонирование фоторезистивного слоя производится электронным пучком вместо света. Фактически используется один очень мощный параллельный пучок электронов, который попадает на матрицу бланкеров (пластина с дырками, одна из сторон которой представляет собой электрод). Когда на электрод подается напряжение, то луч не проходит. Плюс к этому, у каждого луча есть индивидуальный дефлектор, отклоняющий луч в пределах 2 мкм перпендикулярно движению пластины, а также электростатическая фокусирующая линза. Таким образом, широкий пучок делится на 13000 узких сфокусированных пучков, направлением каждого из которых можно управлять. Микропластины с дефлекторами и линзами изготавливаются на специальных заводах по уже хорошо отработанной МЭМС технологии.

Основным преимуществом Mapper перед конкурирующей технологией EUV является отсутствие дорогостоящих масок, которые в оптической литографии нужно изготавливать для каждого типа микросхем. Это может существенно снизить стоимость конечной продукции.

Из технологических сложностей следует упомянуть необходимость использования достаточно мощного источника электронов, требование высочайшей скорости передачи маски на МЭМС матрицу, а также масштабирование на серийное производство (текущий прототип Matrix 1.1 позволяет обрабатывать 1 подложку в час, для крупносерийного производства предполагается объединять установки в большие кластеры).

Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована и крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.

В 2012 году корпорация РОСНАНО наряду с другими фондами инвестировала в компанию Mapper Lithography. В рамках проекта предполагается завершение разработки и начало производства литографического оборудования. Вторая часть проекта заключается в открытии в России линии по производству электронной оптики МЭМС. Электронная оптика используется для отклонения и фокусировки множества электронных пучков при экспонировании пластины и, таким образом, является ключевым элементом технологии MAPPER. Завод по производству МЭМС оптики открылся в технополисе «Москва»- новом российском центре инновационного производства, расположенном недалеко от центра Москвы на территории бывшего автозавода «Москвич» (подробнее о технополисе: www.technomoscow.ru).

Площадь московского завода составляет две тысячи квадратных метров. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, согласно измерениям, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Все производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в том числе литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и для удаления фоторезиста Trymax, а также система для нейтрализации отходящих газов CS Clean Systems. На московском заводе будет работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в головной компании в Голландии.

Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые — спейсеры — служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры — кремниевые электронные линзы, предназначены для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов — содержащих электронику управляющих электродов — планируется начать к концу 2015 года.





Комментарии
Пастух Евфграфович, 12 августа 2014 10:38 
Вообще, связь между чистотой и сложностью следует признать повсемесно. Это добрые друзья Надеюсь, если присмотреться, уже все сотрудники выезжая "на природу" не оставляют за собой даже фантика от конфетки?

"Это может существенно снизить стоимость конечной продукции."
- (Вздыхая) а качество опять будет зависеть от человеческого фактора или где?


Для того чтобы оставить комментарий или оценить данную публикацию Вам необходимо войти на сайт под своим логином и паролем. Зарегистрироваться можно здесь

 

Наносветофор
Наносветофор

В Москве начинается MAPPIC - 2019
14-15 октября 2019 года состоится I Московская осенняя международная конференция по перовскитной фотовольтаике (Moscow Autumn Perovskite Photovoltaics International Conference – MAPPIC-2019)

РИА Новости: Нобелевскую премию по химии присудили за разработку литий-ионных батарей
РИА Новости: Джон Гуденаф, Стенли Уиттингхем и Акира Йошино стали лауреатами Нобелевской премии в области химии за 2019 год за разработку литий-ионных батарей.

РИА Новости: Названы лауреаты Нобелевской премии по физике
РИА Новости: Джеймс Пиблз из США и швейцарцы Дидье Кело и Мишель Майор стали лауреатами Нобелевской премии по физике за 2019 год.

Лекция про Дмитрия Ивановича и Наномир на Фестивале науки
Е.А.Гудилин и др., Фестиваль науки
В дни Фестиваля науки «NAUKA 0+» на Химическом факультете МГУ ведущие ученые познакомили слушателей с самыми современными достижениями химии. Ниже приводится небольшой фоторепортаж 1 дня и расписание лекций.

Как правильно заряжать аккумулятор?
Д. М. Иткис
Химик Даниил Иткис о том, как правильно заряжать аккумуляторы гаджетов и почему телефон выключается на холоде

Постлитийионные аккумуляторы
В. А. Кривченко
Физик Виктор Кривченко о перспективных видах аккумуляторов, фундаментальных проблемах в производстве литий-серных источников тока и преимуществах постлитийионных аккумуляторов

Технонано

Технопредпринимательство - идея, которая принесет свои плоды при бережном культивировании и взращивании. И наша наноолимпиада, и Наноград от Школьной Лиги РОСНАНО, и проект Стемфорд, и другие замечательные инициативы - важные шаги на пути реализации этой и других идей, связанных с развитием новых высоких технологий в нашей стране и привлечением молодых талантов в эту вполне стратегическую область. Ниже приведен небольшой опрос, который позволит и нам, и вам понять, а что все же значит этот модный термин, и какова его суть.

Технопредпринимательство на марше

Мы традиционно просим вас высказать свои краткие суждения по вопросу технопредпринимательства и проектной деятельности школьников. Для нас очевидно, что под технопредпринимательством и под проектной деятельностью школьников каждый понимает свое, но нам интересно ваше мнение, заодно вы сможете увидеть по мере прохождения опроса, насколько оно совпадает или отличается от мнения остальных. Ждем ваших ответов!

О наноолимпиаде замолвите слово...

Прошла XII Всероссийская олимпиада "Нанотехнологии - прорыв в Будущее!" Мы надеемся, что нам для улучшения организации последующих наноолимпиад поможет электронное анкетирование. Мы ждем Ваших замечаний, пожеланий, предложений. Спасибо заранее!



 
Сайт создан в 2006 году совместными усилиями группы сотрудников и выпускников ФНМ МГУ.
Сайт модернизирован для ресурсной поддержки проектной деятельности учащихся в рамках ГК 16.647.12.2059 (МОН РФ)
Частичное или полное копирование материалов сайта возможно. Но прежде чем это делать ознакомьтесь с инструкцией.