Нанотехнологическое сообщество Нанометр, все о нанотехнологиях
на первую страницу Новости Публикации Библиотека Галерея Сообщество Объявления Олимпиада ABC О проекте
 
  регистрация
помощь
 
Схемы стандартного и нового транзисторов.
Увеличенное изображение тестовой кремниевой пластины сделанной с использованием новой технологии.

Intel и IBM разрабатывают новое поколение микросхем

Ключевые слова:  IBM, Intel, периодика, транзистор

Опубликовал(а):  Зайцев Дмитрий Дмитриевич

07 февраля 2007

Intel и IBM объявили о том, что они будут использовать совершенно новые материалы для того чтобы сделать более быстрые и миниатюрные транзисторы для следующего поколения микросхем.

Обычные изготавливаемые из кремния транзисторы представляют собой простые переключатели, которые дают в качестве электронных данных нуль или единицу. Чем выше скорость переключения – тем выше эффективность микросхемы. Создание более миниатюрных, дешевых, быстрых транзисторов с минимальными энергозатратами помогало промышленности следовать предсказанию соучредителя компании Intel Гордона Мура о том, что количество транзисторов в микросхемах будет удваиваться примерно каждые два года.

Микропроцессоры сейчас состоят из миллионов транзисторов, соединенных вместе специальным образом медными проводами. Но использование текущих кремниевых технологий больше не дает возможности выполнять «Закон Мура».

В транзисторах ток протекает между двумя пунктами назначения, называемыми «исток» и «сток». Протекающий ток контролируется напряжением на третьем контакте – «затворе» (см. рисунок). Для эффективного переключения транзистора «затвор» должен быть изолирован от «истока» и «стока» тонкой прослойкой оксида кремния, являющегося, как известно, диэлектриком. С уменьшением размера транзистора прослойка из оксида кремния уменьшилась практически до нескольких атомных слоев. Это позволяет электронам туннелировать через изолирующий слой, что приводит к протеканию тока через диэлектрик, следствием чего является нагрев и плохая работа микросхем.

Производители микросхем попытались заменить изолятор материалом со значительно большей диэлектрической константой, чем у оксида кремния – оксидом гафния. Исследователи научились наносить очень тонкую пленку оксида гафния и смешивать его с оксидом или нитридом кремния на молекулярном уровне, для того чтобы улучшить изолирующие свойства. Однако нанесение проводящего кремния поверх оксида гафния проблематично. Для этого требуется высокая температура, что приводит к повреждению изолирующего слоя и, как следствие, к значительному уменьшению скорости переключения, которая становится сравнимой со скоростью переключения стандартных кремниевых транзисторов.

Объединив усилия, Intel и IBM разработали новый материал затвора, который можно нанести на диэлектрик при более мягких условиях. Материал включает в себя нитриды титана и гафния, рутений, вольфрам, оксид рутения и ряд силицидов металлов.

Гордон Мур считает, что использование новых материалов приведет к самым большим изменениям в технологии производства транзисторов со времени разработки транзисторов с поликремневым затвором в 60-х годах прошлого века.

Новая технология позволит изготовить микросхемы, в которых характеристическая величина, равная половине расстояния между каждым элементом памяти составит 45 нм. В современных устройствах эта величина составляет 65 нм. Intel рассчитывает, что производство новых микросхем начнется в этом году.



Источник: Nanowerk




Для того чтобы оставить комментарий или оценить данную публикацию Вам необходимо войти на сайт под своим логином и паролем. Зарегистрироваться можно здесь

 

Проникающие шарики
Проникающие шарики

Интервью с участниками, авторами задач и организаторами XIII Олимпиады
Предлагаем ознакомиться с подборкой видеороликов - миниинтервью, взятых в течение очного тура XIII Всероссийской Интернет-олимпиады по нанотехнологиям "Нанотехнологии - прорыв в будущее!" (25 - 30 марта 2019 года).

Неделя Олега Лосева
Портал RSCI.RU и инициаторы проведения "Недель Олега Лосева" приглашают все вузы и факультеты физико-технологического и радиоэлектронного профиля к участию в первой Неделе Олега Лосева в Рунете, посвященной Олегу Владимировичу Лосеву - признанному пионеру полупроводниковой электроники и оптоэлектроники.

Магистратура Московского университета по химической технологии
Химический факультет МГУ имени М.В.Ломоносова объявляет о приеме в магистратуру "Химическая технология" для подготовки специалистов в области полимерных композиционных материалов, углеродных материалов, защитных покрытий.

Интервью с Константином Козловым - абсолютным победителем XIII Наноолимпиады
Семенова Анна Александровна
Школьник 11 класса Константин Козлов (г. Москва) стал абсолютным победителем Олимпиады "Нанотехнологии - прорыв в будущее!" 2018/2019 по комплексу предметов "физика, химия, математика, биология". О своих впечатлениях, увлечениях и немного о планах на будущее Константин поделился с нами в интервью.

Микроэлементарно, Ватсон: как микроэлементы действуют на организм
Алексей Тиньков
Как на нас воздействуют кадмий, ртуть, цинк, медь и другие элементы таблицы Менделеева рассказал сотрудник кафедры медицинской элементологии РУДН Алексей Тиньков в интервью Indicator.Ru

Зимняя научная конференция студентов 4 курса ФНМ МГУ 22-23 января 2019 г.
Сафронова Т.В.
Настоящий сборник содержит тезисы докладов зимней научной студенческой конференции студентов 4-го курса ФНМ

Технопредпринимательство на марше

Мы традиционно просим вас высказать свои краткие суждения по вопросу технопредпринимательства и проектной деятельности школьников. Для нас очевидно, что под технопредпринимательством и под проектной деятельностью школьников каждый понимает свое, но нам интересно ваше мнение, заодно вы сможете увидеть по мере прохождения опроса, насколько оно совпадает или отличается от мнения остальных. Ждем ваших ответов!

О наноолимпиаде замолвите слово...

Прошла XII Всероссийская олимпиада "Нанотехнологии - прорыв в Будущее!" Мы надеемся, что нам для улучшения организации последующих наноолимпиад поможет электронное анкетирование. Мы ждем Ваших замечаний, пожеланий, предложений. Спасибо заранее!

Опыт обучения в области нанотехнологического технопредпринимательства

В этом опросе мы просим поделиться опытом и Вашим отношением к нанотехнологическому технопредпринимательству и смежным областям. Заранее спасибо за Ваше неравнодушие!



 
Сайт создан в 2006 году совместными усилиями группы сотрудников и выпускников ФНМ МГУ.
Сайт модернизирован для ресурсной поддержки проектной деятельности учащихся в рамках ГК 16.647.12.2059 (МОН РФ)
Частичное или полное копирование материалов сайта возможно. Но прежде чем это делать ознакомьтесь с инструкцией.